電子デバイスの小型化に伴い、次世代のチップ設計を開発するために、半導体メッキ業界では、先端のICパッケージング技術を提供してきています。技術向上の維持の為に、均一性、低発塵をコントロールしながらメッキ液のプロセスをポンプシステムは実現しなくてはいけません。Levitronix®のポンプとは違い、機械的に接触するベアリングを有する遠心ポンプでは、液の沈殿物により閉塞によるポンプの故障を生じます。
アクティブ磁気浮上を基本技術としたレビトロニクスのポンプシステムは、脈動がなく定流量であり、装置の稼働率と信頼性を向上させます。機械的なベアリングがない事で、パーティクルをほとんど発生させません。
Levitronix®ポンプシステムは、高い生産性を実現するために、安定、均一、高純度を要求されるメッキプロセスの為に設計されました。
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