プロセスの管理は、ウエハーと直接接する液体の管理から始まります。デバイスの微細化と共に、集中供給される薬液への純度の要求は飛躍的に厳しくなります。ポンプによる送液と比べ、加圧による送液方法で生じるウォーターハンマーは、フィルターからの粒子の放出、配管の破損などのリスクの原因として考えられます。半導体製造用のポンプシステムの中で、Levitronix®ポンプは、機械的なベアリングを無くし、パーティクルをほとんど発生させないため、先端半導体洗浄での標準となっています。
Levitronix®ポンプシステムは、高い生産性を実現する為に、高清浄度で安全な送液が要求される薬液供給アプリケーションの為に設計されました。
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