随着小型化的不断发展，半导体电镀行业正在提供先进的集成电路封装来开发下一代芯片设计。为了跟上技术进步的步伐，泵系统必须使珍贵的电镀溶液在工艺流程中保持可控、均匀且无颗粒产生。
与Levitronix® 泵相比，磁驱动离心泵包含机械滑动轴承，它会因溶液的沉淀而阻塞及失效。Levitronix® 泵系统采用主动磁悬浮技术，显着延长了设备的正常运行时间，并可提供可靠、无脉冲和稳定的流量。由于没有机械轴承，因此几乎不会产生碎屑颗粒。
Levitronix®泵系统专门设计用于要求苛刻的电镀应用，在这些应用中，一致、均匀和超纯净的工艺流程将确保最高的良率。
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