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極めて低い粒子脱落Levitronix®ポンプシステムは、アクティブ磁気浮上を基本技術にしています。インペラとポンプヘッドケースとの機械的な接触はないので、摩耗なく動作し、その結果、パーティクルを発生させません。
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半導体製造でのコンタミネーションの影響が大きくなる事への対応として、ウエハー洗浄は最も重要なプロセスの1つとなっています。プロセス装置からの粒子汚染を最小化する事は、歩留まりを上げるために最も重要です。Levitronix®ポンプと比較して、空気圧ポンプはチェックバルブ、ベローズ、ダイヤフラム、およびその他のコンポーネント摩擦により摩耗します。
摩耗によりパーティクルシェディングが発生し、それはウエハーの欠陥の原因になる可能性があります。さらに、空気圧ポンプによる脈動は、放出粒子の増加によりフィルターの性能を低下する事が考えられます。
Levitronix®ポンプシステムは、アクティブ磁気浮上を基本技術にしています。インペラとポンプヘッドケースとの機械的な接触はないので、摩耗なく動作し、その結果、パーティクルを発生させません。
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圧力と流れの脈動は、フィルターからの粒子放出を増加させ、その寿命を制限することが知られています。オープンなポンプヘッド設計、遠心ポンプの原理、バルブレスにより、完全に脈動のない流れは、フィルター性能を向上させ、その寿命を増加させます。
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Application Brochure: The Purest Pumps in Wet Cleaning / Etching 
